unidade de exposição a vácuo
Um unidade de exposição a vácuo é um equipamento sofisticado essencial no processo de fotolitografia, usado principalmente na fabricação de placas de circuito impresso (PCI) e em outras aplicações industriais. Este sistema avançado combina exposição precisa à luz com tecnologia de vácuo para garantir o contato ótimo entre o filme de arte e a superfície fotosensível. A unidade possui uma fonte de luz UV de alta intensidade, geralmente utilizando lâmpadas LED ou de vapor de mercúrio, que fornece iluminação consistente e uniforme em toda a área de exposição. O sistema de vácuo cria um selo hermético entre a arte e o substrato, eliminando espaços de ar que poderiam comprometer a qualidade da imagem. O painel de controle digital da unidade permite que os operadores ajustem precisamente os tempos de exposição, a pressão do vácuo e a intensidade da luz, garantindo resultados repetíveis. Unidades modernas de exposição a vácuo frequentemente incorporam recursos como configurações de memória programáveis, cálculos automáticos de exposição e sistemas de resfriamento embutidos para manter temperaturas de operação ideais. A construção robusta do equipamento geralmente inclui um quadro pesado, câmara de exposição à prova de luz e intertravamentos de segurança para proteger os operadores da radiação UV. Essas unidades estão disponíveis em vários tamanhos para atender a diferentes necessidades de produção, desde prototipagem em formato pequeno até fabricação industrial em larga escala.