vacuüm belichtingsapparaat
Een vacuüm-exposieteenheid is een geavanceerd stuk uitrusting dat essentieel is in het fotolitografieproces, voornamelijk gebruikt bij de productie van printplaten (PCB) en andere industriële toepassingen. Dit geavanceerde systeem combineert nauwkeurige lichtexpositie met vacuümmtechnologie om optimale contact te waarborgen tussen de kunstwerkfilm en de lichtgevoelige oppervlakte. De eenheid heeft een hoogintensieve UV-lichtbron, meestal gebruikmakend van LED of kwikdamplampen, die consistent en uniforme verlichting biedt over het hele expositiegebied. Het vacuümsysteem creëert een luchtdichte sluiting tussen het kunstwerk en de substraat, wat luchtgaten elimineert die de beeldkwaliteit kunnen compromitteren. Het digitale controlepaneel van de eenheid laat operateurs precies de expositietijden, vacuümdruk en lichtintensiteit aanpassen, zodat herhaalbare resultaten worden gegarandeerd. Moderne vacuüm-exposieteenheden omvatten vaak functies zoals programmeerbare geheugeninstellingen, automatische expositieberekeningen en ingebouwde koelsystemen om optimale werktemperaturen te handhaven. De constructie van het apparaat is doorgaans robuust, inclusief een zware frame, een lichtdichte expositiekamer en veiligheidssloten om operateurs te beschermen tegen UV-straling. Deze eenheden zijn beschikbaar in verschillende maten om verschillende productiebehoeften te voldoen, van kleine-formaatprototypen tot grote schaal industriële productie.