真空露光ユニット
真空露光装置は、フォトリソグラフィプロセスにおいて不可欠な高度な機器であり、主に印刷回路基板(PCB)の製造やその他の産業応用で使用されます。この先進的なシステムは、正確な光露光と真空技術を組み合わせて、アートワークフィルムと感光面との最適な接触を確保します。装置には高強度のUV光源が搭載されており、通常はLEDまたは水銀ランプを使用し、露光領域全体にわたって一貫した均一な照明を提供します。真空システムはアートワークと基板の間で気密シールを作り、画像品質に悪影響を与える可能性のある空気の隙間を排除します。デジタルコントロールパネルにより、操作者は露光時間、真空圧力、光強度を正確に調整でき、再現性のある結果を得ることができます。現代の真空露光装置には、プログラミング可能なメモリ設定、自動露光計算、内蔵冷却システムなどの機能が含まれていることが多く、最適な動作温度を維持します。装置の堅牢な構造は通常、重厚なフレーム、遮光露光室、UV放射から操作者を保護するための安全インターロックを含んでいます。これらの装置はさまざまなサイズで利用可能であり、小形式のプロトタイピングから大規模な工業製造まで異なる生産要件に対応できます。