szilkcéh expozíció
A szilkbázis kitérítése alapvető folyamat a szigetnyomtatásban, amelynek során egy tervezetet átvihetünk fémes szigetre fényérzékeny emulzió használatával. Ez a kulcsfontosságú lépés a sablont hozza létre, amelyen keresztül később az inkább halad át a végleges nyomtatott kép elkészítéséhez. A folyamat elején egy fémes szigetet fedünk fel fényérzékeny emulzióval, majd sötét feltételek között száradítjuk. A tervezet, amelyet átlátszó filmen nyomtattak ki, elhelyezik a fedett szigetre, és magas-intenzitású UV-fényre kitérítik. A kitérítés során azok a területek az emulzióban, amelyek nem védettek a tervezettel, megmerevednek és vízben nem oldódnak, míg a védett területek maradékosak és moshatóak. A kitérítés után a szigetet óvatosan mosogatjuk, eltávolítva a nem kitért emulziót a sablon minta létrehozásához. A modern szilkbázis kitérítési egységek pontossággal ellenőrizhető UV-világítási rendszereket tartalmaznak, amelyek biztosítják a teljes szigetszín konzisztens kitérítését. Ezek az egységek gyakran vákuumszisztémát tartalmaznak a film pozitív és a sziget közötti tökéletes kapcsolat fenntartására, megakadályozva a fény alácsúszását és éles képszáleket biztosítva. Az technológia fejlődött olyan digitális időzítő vezérlésekre, változó intenzitás-beállításokra, és még LED fényforrásokra is, amelyek energiatakarékosabb működést tesznek lehetővé. Ez a versengő folyamat támogatja a legkülönbözőbb alkalmazást, a szövetnyomtatástól az elektronikai gyártásig, lehetővé téve mind a finom részletmunkát, mind a nagyformátumú termelési igényeket.
EN
