unidade de exposición a vacío
Unha unidade de exposición ao vacío é un equipo sofisticado esencial no proceso de fotolitografía, utilizado principalmente na fabricación de placas de circuitos impresos (PCI) e en outras aplicacións industriais. Este sistema avanzado combina unha exposición luminosa precisa coa tecnoloxía de vacío para asegurar un contacto óptimo entre a película do deseño e a superficie fotosensible. A unidade conta cunha fonte de luz UV de alta intensidade, normalmente empregando diodos emisores de luz (LED) ou lámparas de vapor de mercurio, que proporciona unha iluminación consistente e uniforme sobre toda a área de exposición. O sistema de vacío crea un sello hermético entre o deseño e o substrato, eliminando os espazos de aire que poderían comprometer a calidade da imaxe. O panel de control digital permite aos operadores axustar precisamente os tempos de exposición, a presión de vacío e a intensidade da luz, asegurando resultados repetibles. As modernas unidades de exposición ao vacío soen incorporar características como axustes de memoria programables, cálculos automáticos de exposición e sistemas de resfriamento integrados para manter temperaturas de funcionamento óptimas. A construción robusta do equipo normalmente inclúe un marco pesado, unha cámara de exposición impermeable á luz e interlocks de seguridade para protexer aos operarios da radiación UV. Estas unidades están dispoñibles en diferentes tamaños para acomodar diferentes requisitos de produción, desde prototipos de formato pequeno ata fabricación industrial a gran escala.