unité d'exposition au vide
Un unité d'exposition sous vide est un équipement sophistiqué essentiel dans le processus de photolithographie, principalement utilisé dans la fabrication de cartes imprimées (CPI) et d'autres applications industrielles. Ce système avancé combine une exposition lumineuse précise avec une technologie sous vide pour garantir un contact optimal entre le film graphique et la surface photosensible. L'unité dispose d'une source lumineuse UV à haute intensité, généralement utilisant des LED ou des lampes au mercure, qui fournit une illumination constante et uniforme sur toute la zone d'exposition. Le système sous vide crée un joint étanche entre l'image et le substrat, éliminant les espaces d'air qui pourraient compromettre la qualité de l'image. Le panneau de contrôle numérique permet aux opérateurs d'ajuster précisément les temps d'exposition, la pression du vide et l'intensité lumineuse, assurant des résultats reproductibles. Les unités modernes d'exposition sous vide intègrent souvent des fonctionnalités telles que des paramètres de mémoire programmables, des calculs d'exposition automatiques et des systèmes de refroidissement intégrés pour maintenir des températures de fonctionnement optimales. La construction robuste de l'équipement inclut généralement un cadre lourd, une chambre d'exposition étanche à la lumière et des dispositifs de sécurité pour protéger les opérateurs des rayonnements UV. Ces unités sont disponibles en différentes tailles pour répondre à divers besoins de production, allant de la prototypes en petit format à la fabrication industrielle à grande échelle.