unidad de exposición al vacío
Un equipo de exposición al vacío es un sofisticado dispositivo esencial en el proceso de fotolitografía, utilizado principalmente en la fabricación de placas de circuito impreso (PCI) y otras aplicaciones industriales. Este sistema avanzado combina una exposición precisa a la luz con tecnología de vacío para garantizar un contacto óptimo entre el filme del diseño y la superficie fotosensible. El equipo cuenta con una fuente de luz UV de alta intensidad, que generalmente utiliza lámparas LED o de vapor de mercurio, proporcionando una iluminación consistente y uniforme en todo el área de exposición. El sistema de vacío crea un sello hermético entre el diseño y el sustrato, eliminando los espacios de aire que podrían comprometer la calidad de la imagen. El panel de control digital permite a los operadores ajustar con precisión los tiempos de exposición, la presión de vacío y la intensidad de la luz, asegurando resultados repetibles. Los equipos de exposición al vacío modernos suelen incorporar funciones como configuraciones de memoria programables, cálculos automáticos de exposición y sistemas de enfriamiento integrados para mantener temperaturas de funcionamiento óptimas. La construcción robusta del equipo generalmente incluye un marco resistente, una cámara de exposición impermeable a la luz y mecanismos de seguridad para proteger a los operadores de la radiación UV. Estos equipos están disponibles en varios tamaños para satisfacer diferentes requisitos de producción, desde prototipos de formato pequeño hasta fabricación industrial a gran escala.