vakuumeksponeringsenhed
En vakuum-ekspositionsenhed er et sofistikater stykke udstyr, der er afgørende i fotolitografiprocesen og bruges hovedsageligt til produktion af trykplader (PCB) og andre industrielle anvendelser. Dette avancerede system kombinerer nøjagtig lys eksponering med vakuumteknologi for at sikre den bedste kontakt mellem billedfilm og det fotosensitive overflade. Enheden har en højintensitets UV-lys kilde, som typisk bruger LED eller kvartslamper, hvilket giver konstant og ensartet belysning over hele ekspositionsområdet. Vakuum-systemet skaber en lufttæt forseglings mellem billedet og substratet, hvilket eliminerer luftmellemrum, der kunne kompromittere billedkvaliteten. Enhedens digitale kontrolpanel gør det muligt for operatørerne at justere ekspositionstid, vakuumtryk og lysintensitet præcist, hvilket sikrer gentagelige resultater. Moderne vakuum-ekspositionsenheder inkluderer ofte funktioner såsom programmerbar hukommelse, automatiske ekspositionsberegninger og indbygget kølesystem for at opretholde optimale driftstemperaturer. Udstyrets robuste konstruktion omfatter typisk en tungt bygget ramme, lysdigt ekspositionsrum og sikkerhedsforløg for at beskytte operatørerne mod UV-stråling. Disse enheder er tilgængelige i forskellige størrelser for at imødekomme forskellige produktionskrav, fra småformatprototypering til stor-skala industrielt fremstilling.