vakuumová expoziční jednotka
Vakuová expoziční jednotka je sofistikovaným zařízením, které je nezbytné v procesu fotolitografie, především používaném v výrobě tiskových obvodů (PCB) a dalších průmyslových aplikacích. Tento pokročilý systém kombinuje přesnou světelnou expozici s vakuumovou technologií, aby zajistil optimální kontakt mezi filmem s motivem a fotosenzitivní plochou. Jednotka disponuje zdrojem intenzivního UV světla, obvykle využívajícím LED nebo rtuťové lampy, které poskytují konzistentní a rovnoměrné osvětlení po celé exponované ploše. Vakuový systém vytváří vzduchotěsné spojení mezi motivem a substrátem, čímž eliminuje vzduchové mezery, které by mohly ovlivnit kvalitu obrazu. Digitální řídící panel umožňuje operátorům přesně nastavit dobu expozice, vakuumový tlak a intenzitu světla, což zajišťuje opakované výsledky. Moderní vakuumové expoziční jednotky často obsahují funkce jako programovatelné paměťové nastavení, automatické výpočty expozice a vestavěné chladiče pro udržení optimálních pracovních teplot. Konstrukce zařízení je obvykle robustní a zahrnuje pevnou rámovou konstrukci, odolnou proti světlu exponovanou komoru a bezpečnostní interlocky pro ochranu operátorů před UV zářením. Tyto jednotky jsou dostupné v různých velikostech pro různé produkční požadavky, od maloformátové prototypizace po velkoformátovou průmyslovou výrobu.
EN
